關於「光刻機用途」標籤，搜尋引擎有相關的訊息討論：

光刻机_百度百科。

光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。

它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅 ...： 。

美中光刻機之戰- 美國專欄 - RFI。

2021年7月26日 · EUV光刻機，又稱“極紫外光（EUV）微影系統”，個人電腦、智能手機、數據中心和雲計算基礎設施等高科技應用的製造商，根本離不開它。

美國的英特爾、韓國的 ...： 。

美國專家稱中國無法取得荷蘭光刻機想發展芯片產業有如天方夜譚 - RFI。

2021年7月9日 · 美國總統拜登與國會議員越來越關切中國對電腦芯片及其基礎技術的野心。

《紐約時報》近日引述美國專家指出，中國無法取得荷蘭半導體設備公司阿斯麥……： 用途? 。

Nikon、Canon 日系光刻機為何被後起之秀ASML 超越？ - 科技新報。

2020年10月22日 · 當今世界光刻機三大製造商是：日本Nikon、Canon 和荷蘭ASML， ... 用途的半導體，優先考慮的都是可靠性，因此光刻機領域其實也各有用途的對應設計。

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[PDF] 2021年卡脖子系列—— 全球光刻机行业概览。

2021年5月14日 · 发生化学变化，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过. 程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图. 形精细加工技术。

❑ 光刻机工作原理：激光器作为光源发射 ...： 。

曝光機- 維基百科，自由的百科全書。

可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用短波長激光和類似投影機原理的步進式光刻機（英語：stepper）或掃描式光刻機（ ...： 。

芯片制造中被卡脖子的光刻机，其工作原理及关键技术是什么？。

2021年9月1日 · 光刻机的整个曝光光学系统，由数十块锅底大的镜片串联组成，其光学零件精度控制在几个纳米以内，目前光刻机镜头最强大的是老牌光学仪器公司德国蔡司，ASML ...： 。

礦物標本平面攝影數位化工作流程指南。

檢索:2010年1月, http://nadm.gl.ntu.edu.tw/nadm/mainpage.htm。

臺灣大學地質科學典藏數位化計畫「計畫總目標」,檢索:2009年12月, ...。

YouTube。

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前瞻研究氫應用開發之科技研發趨勢探討賴志遠副研究員文章圖片所有權:https://goo.gl/hqr970,Created by Idaho National Laboratory 版權適用聲明:姓名標示摘要 ...