前往 华为招光刻工艺工程师，就是要自研光刻机吗？-电子工程专辑 您即將離開本站，並前往华为招光刻工艺工程师，就是要自研光刻机吗？-电子工程专辑 確認離開返回上頁常見上海微電子ssa/800問答中國光刻機上海 中微 半導體 5nmSMEE 光刻機上海 光刻机SMEE 曝光機上海微電子 台灣中端光刻機ASML 光刻機 中國中國光刻機技術28納米光刻機中芯國際 光刻機中國 微電子SMEE 光刻上海 光刻机 延伸文章資訊华为招光刻工艺工程师，就是要自研光刻机吗？-电子工程专辑 | 目前上海微电子正在研发的SSA/800-10W光刻机设备单次曝光就只可以直接生产28nm芯片，如果使用套刻精度在1.9nm左右的工作台，在多次曝光下能够实现11nm工艺 ...重大突破：第一台28nm国产光刻机有望两年内交付 | 此外，这台上海微电子SSA/800-10W光刻机设备将会采用ArF光源，套刻精度在1.9nm左右，在多次曝光下能够实现11nm制程工艺的芯片生产。華為無懼斷供！國產光刻機巨頭正式官方宣傳 | 據悉，這台上海微電子SSA/800-10W光刻機設備將會採用ArF光源，而套刻精度則在1.9nm左右，在多次曝光下能夠實現11nm製程工藝的芯片生產，如果改用套刻 ...